Unternehmensforschung: Halbleiterfertigungsanlagen – Tokyo Electron und SCREEN Holdings

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Halbleiterfertigungsanlagen bauen mikroskopisch kleine Schaltkreise auf Siliziumwafer auf. Japanische Unternehmen haben zwar Marktanteile in der Halbleiterproduktion verloren, sind aber im Bereich der Fertigungsanlagen weiterhin global wettbewerbsfähig. Tokyo Electron, einer der weltweit größten Komplettanbieter von Anlagen, und SCREEN Holdings, Weltmarktführer im Bereich Reinigungsanlagen, unterscheiden sich deutlich in Größe und Strategie. Die Beschichtungs- und Entwicklersysteme von Tokyo Electron haben einen Weltmarktanteil von 90 % (nahezu 100 % bei EUV-Lithografieanwendungen) – eine Dominanz, die selbst in der Halbleiterindustrie bemerkenswert ist. SCREEN hingegen blickt auf eine ungewöhnliche Geschichte zurück: vom Druckunternehmen zum Hersteller von Halbleiteranlagen.

Tokyo Electron

SCREEN Holdings

Bild: Tokyo Electron Logo (gemeinfrei; Markenrechte gelten weiterhin separat) / Silicon Wafer (CC0), Wikimedia Commons. Das Foto des Wafers zeigt kein spezifisches SCREEN-Produkt, sondern veranschaulicht die Art von Objekten, die im Reinigungsprozess von SCREEN behandelt werden.

Unternehmensgeschichte: Tokyo Electrons Gründung im Halbleiterbereich, SCREENs Wandel vom Drucksektor

Tokyo Electron wurde am 11. November 1963 in Akasaka, Minato-ku, Tokio, mit einem Startkapital von 5 Millionen Yen von Tokuo Kubo, Toshio Kodaka und anderen gegründet. Die Gründer waren überzeugt, dass „Halbleiter die Industrie revolutionieren werden“ – zunächst als spezialisiertes Technologiehandelsunternehmen. 1964 sicherte sich das Unternehmen die Import- und Vertriebsrechte für Diffusionsöfen von Thermco (USA) und stieg 1968 über ein Joint Venture, Tel-Thermco, in die heimische Produktion von Diffusionsöfen ein – der Beginn der Transformation zum Anlagenhersteller. 1986 übernahm das Unternehmen die vollständige Kontrolle über ein Joint Venture mit Lam Research (USA), um sein Produktportfolio zu erweitern. Im selben Jahr begann es mit dem Export ins Ausland und erreichte 1989 die weltweit führende Position im Bereich Halbleiteranlagenbau. 2013 unterzeichnete es eine Fusionsvereinbarung mit Applied Materials (USA), die jedoch 2015 aufgrund wettbewerbsrechtlicher Bedenken abgesagt wurde. Seitdem verfolgt das Unternehmen sein Wachstum unabhängig und setzt dabei auf unterschiedliche Visionen und mittelfristige Managementpläne.

Die Geschichte von SCREEN Holdings reicht noch weiter zurück, bis ins Jahr 1868 (das erste Jahr der Meiji-Zeit), als der Kupferstecher Saijiro Ishida in Kyoto die lithografische Druckerei Ishida Kyokuzan Printing gründete. Nachdem das Unternehmen die Ära des Kupferstich- und Lithografiedrucks durchlaufen hatte, gelang es ihm, die Herstellung von Fotoätzsieben – unerlässlich für fotografische Druckplatten – zu etablieren. 1937 wurde die Forschungsabteilung als Dai Nippon Screen Manufacturing ausgegliedert und 1943 in eine Aktiengesellschaft umgewandelt. Der Firmenname „Screen“ leitet sich von diesem Gründungsgeschäft, dem Siebdruck, ab. Später diversifizierte das Unternehmen und produzierte Präzisionskomponenten – elektronische Graviermaschinen, Zielgitter für TV-Kameraröhren und Schattenmasken für Farb-CRT-Fernseher. In den 1970er-Jahren stieg es in die Halbleiterindustrie ein und entwickelte Fotolackbeschichtungssysteme und Chargenreinigungssysteme. Bis 1994 hatten die Umsätze mit Elektronikgeräten das ursprüngliche Geschäft mit Druckmaschinen überholt, was eine vollständige Neuausrichtung des Kerngeschäfts bedeutete. Am 1. Oktober 2014 benannte sich das Unternehmen in SCREEN Holdings Co., Ltd. um und wandelte sich in eine Holdinggesellschaft um.

Vergleich der Unternehmensgröße: Fünfjahrestrend

Die Geschäftsjahre beider Unternehmen enden im März. Die Betrachtung der letzten fünf Geschäftsjahre (GJ 2022/23 bis GJ 2026/23) zeigt, dass beide Unternehmen denselben Investitionszyklus im Halbleiterbereich durchlaufen, wobei der Größenunterschied zwischen ihnen über die Jahre hinweg nahezu konstant geblieben ist.

Geschäftsjahr	Umsatz Tokyo Electron	Betriebsergebnis Tokyo Electron	Umsatz SCREEN	Betriebsergebnis SCREEN

| Metrik | Tokyo Electron | SCREEN Holdings | |---|---|

Nettogewinn (GJ 2026/3) | 574,4 Mrd. Yen (+5,6 % gegenüber dem Vorjahr, teilweise aufgrund von Gewinnen aus dem Verkauf von wechselseitig gehaltenen Aktien) | 92,0 Mrd. Yen (-7,5 % gegenüber dem Vorjahr) |

| Konsolidierte Mitarbeiterzahl | 19.573 (Stand: Geschäftsjahr, das im März 2025 endet) | 6.884 (+469 gegenüber dem Vorjahr) |

Der Umsatz von Tokyo Electron ist etwa viermal so hoch wie der von SCREEN Holdings. Auffällig ist, dass beide Unternehmen einen nahezu identischen Zyklus durchlaufen haben: einen Einbruch während des Investitionsrückgangs im Halbleitersektor in den Geschäftsjahren 2024/23, eine starke Erholung auf Rekordniveau in den Geschäftsjahren 2025/23 und einen erneuten Rückgang der Gewinne in den Geschäftsjahren 2026/23. Der Unterschied in der Mitarbeiterzahl (etwa 2,8-mal) ist geringer als der Umsatzunterschied (etwa 4-mal), wodurch SCREEN beim Umsatz pro Mitarbeiter etwas niedriger liegt. Tokyo Electron steigerte seinen Nettogewinn im Geschäftsjahr 2026/23 dank Gewinnen aus dem Verkauf von Beteiligungen, während SCREEN sowohl einen Rückgang des Betriebs- als auch des Nettogewinns verzeichnete.

Umsatz von Tokyo Electron und SCREEN Holdings von 2022 bis 2026

Diagramm: Duskcoil. Die Umsatzwerte in der Tabelle wurden in Billionen Yen umgerechnet. Dieses Diagramm stellt keine Anlageberatung dar.

Vergleich der Flaggschiffprodukte

Beschichtungs-/Entwicklungsanlagen vs. Reinigungsanlagen: Quasi-Monopolstellung der Unternehmen

Unter den Produktlinien von Tokyo Electron sticht das Beschichtungs-/Entwicklungssystem hervor, das Fotolack auf den Wafer aufträgt und ihn nach der Belichtung entwickelt – die Flaggschiffproduktfamilie „CLEAN TRACK“ (einschließlich der Serien LITHIUS Pro und ACT). Der Weltmarktanteil von Tokyo Electron liegt bei rund 90 % und steigt bei den fortschrittlichsten EUV-Lithografieverfahren auf nahezu 100 %. Dies basiert auf der engen Integration mit ASML aus den Niederlanden, dem weltweit führenden Hersteller von Lithografieanlagen. Die Möglichkeit, die Anlage direkt mit dem Belichtungswerkzeug zu verbinden und den gesamten Prozess zu optimieren, ist Tokyo Electrons zentraler Wettbewerbsvorteil.

Die Reinigungsanlagen von SCREEN Holdings sind mit einem Marktanteil von 34,7 % weltweit führend in allen drei Kategorien: Einzelwafer-Systeme (Flaggschiffprodukte SU-3200, SU-3300 und SU-3400), die jeweils einen Wafer bearbeiten; Batch-Systeme, die mehrere Wafer gleichzeitig bearbeiten; und Rotationsreiniger, die Substrate während der Rotation mit hoher Geschwindigkeit reinigen. Die kumulierten Auslieferungen überstiegen 2025 die Marke von 15.000 Einheiten. Das Unternehmen ist insbesondere bei Einzelwafer-Reinigungsanlagen für modernste Logik- und Speicherchips wettbewerbsfähig. Die SU-3300 nutzt SCREENs patentierte „Advanced Process Atmosphere Control“-Technologie, um den Innenraum der Kammer in einem ultrareinen Zustand zu halten. Dadurch wird ein Durchsatz erreicht, der dem von Batch-Systemen nahekommt, während gleichzeitig die für die Einzelwafer-Bearbeitung einzigartige hohe Reinigungsqualität erhalten bleibt.

Produkt	Tokyo Electron Coater/Developer (CLEAN TRACK)	SCREEN Einzelwafer-Reinigungsanlagen (SU-3300 und andere)
Weltmarktanteil	~90 % (nahezu 100 % bei EUV-Anwendungen)	34,7 % aller Reinigungsanlagen (weltweit führender Marktanteil in den Kategorien Einzelwafer, Batch und Spin-Scrubber)
Hauptanwendung	Resistbeschichtung und -entwicklung, Inline-Integration mit Lithographieanlagen	Entfernung von Verunreinigungen und Chemikalienrückständen von Wafern für modernste Logik-/Speichertechnologien
Wettbewerbsvorteil	Prozessoptimierung durch Integration mit ASML-Lithografieanlagen	Proprietäre Kammeratmosphärensteuerungstechnologie für hohen Durchsatz und höchste Qualität

Ätzen und Abscheiden vs. Vorstoß in den Back-End-Bereich (Advanced Packaging)

Tokyo Electron ist ein Komplettanbieter von Anlagen für alle vier wichtigen Front-End-Prozessschritte. Neben der Beschichtungs-/Entwicklungsanlage umfasst das Portfolio das Plasmaätzsystem „Tactras“ (Einführung 2006, eine Anlage für 300-mm-Wafer mit bis zu sechs Ätzkammern) und das CVD-Abscheidungssystem „Triase+“ für Einzelwafer, das WF6 und TiCl4 verwendet. Sowohl im Ätz- als auch im Abscheidungsmarkt nimmt Tokyo Electron neben Applied Materials und Lam Research aus den USA eine oligopolistische Stellung ein.

SCREEN konzentrierte sich traditionell auf die Reinigung im Front-End-Bereich, expandierte aber in den letzten Jahren in den Back-End-Bereich – insbesondere in die fortschrittliche Gehäusetechnologie, die Halbleiterchips stapelt und verbindet. Auf der SEMICON Japan im Dezember 2025 präsentierte das Unternehmen zwei neue Strategien, die auf seiner Erfolgsbilanz von über 15.000 ausgelieferten Reinigungsanlagen aufbauen: den Ausbau des Back-End-Bereichs und ein neues Forschungs- und Entwicklungszentrum in den USA. SCREENs Schritt über die Front-End-Spezialisierung hinaus hin zur Back-End-Technologie spiegelt einen Branchenwandel wider, in dem mit zunehmender Komplexität von KI-Chips die Gehäusetechnologie selbst immer stärker die Leistung bestimmt.

Unterschiedliche Technologiestrategien

Die Herstellung eines Halbleiters umfasst Dutzende bis Hunderte von Prozessschritten – Abscheidung, Fotolithografie (Beschichtung und Entwicklung), Ätzen, Reinigen, Wärmebehandlung und mehr. Die Strategien der beiden Unternehmen unterscheiden sich deutlich hinsichtlich des Umfangs der von ihnen abgedeckten Prozessschritte.

Tokyo Electron ist ein Komplettanbieter von Anlagen für alle vier Hauptprozesse der Halbleiterfertigung – Abscheidung, Beschichtung/Entwicklung, Ätzen und Reinigen – und hält in vielen dieser Bereiche einen weltweit führenden Marktanteil. Ein Produktportfolio, das nicht an einen einzelnen Prozessschritt gebunden ist, ermöglicht es dem Unternehmen, flexibel auf technologische Entwicklungen zu reagieren.

SCREEN Holdings hingegen begann als Spezialist für einen einzigen Prozess – die Reinigung, bei der Verunreinigungen und Chemikalienreste vom Wafer entfernt werden. Durch die Fokussierung auf diesen einen Prozess konnte das Unternehmen seine Technologie stark verbessern und die Fähigkeit zur kundenspezifischen Anpassung zu seinem zentralen Wettbewerbsvorteil ausbauen. Wie bereits erwähnt, erweitert der jüngste Vorstoß in den Bereich der Back-End-Prozesse diese ehemals enge Spezialisierung jedoch schrittweise.

Dieser Gegensatz – breit gefächert und flach versus schmal und tief – ist ein Muster, das sich in der gesamten Halbleiteranlagenindustrie beobachten lässt. Die beiden Unternehmen positionieren sich oft weniger als direkte Konkurrenten, sondern vielmehr als Akteure mit unterschiedlichen Stärken in verschiedenen Phasen des Prozesses.

Entwicklungs- und Produktionsstätten

Neben dem Hauptsitz in Tokio (Akasaka, Bezirk Minato) betreibt Tokyo Electron Produktionsstätten über Tochtergesellschaften in der Präfektur Yamanashi (Tokyo Electron Technology Solutions, Beschichtungs- und Ätzsysteme), der Präfektur Miyagi (Tokyo Electron Miyagi, Plasmaätzsysteme) und der Präfektur Iwate (Tokyo Electron Tohoku). Neben dem Hauptsitz in Kyoto betreibt SCREEN Holdings in Japan den Standort Hikone (Präfektur Shiga) – das Stammwerk für Halbleiterfertigungsanlagen – sowie die Standorte Yasu (Präfektur Shiga) und Rakusai (Stadtteil Fushimi, Kyoto). Die untenstehende Karte zeigt die wichtigsten inländischen Standorte, deren Existenz wir bestätigen konnten (ausländische Standorte und kleinere Vertriebsbüros sind nicht berücksichtigt).

Quellen: Für Tokyo Electron die offiziellen Seiten „Standorte“ und „Anlagen“ sowie die offiziellen Seiten der einzelnen Konzerngesellschaften (Tokyo Electron Miyagi, Tokyo Electron Technology Solutions). Für SCREEN Holdings die offizielle Seite „Liste der inländischen Standorte“. Bei einigen Einrichtungen beider Unternehmen wird keine genaue Straßen-/Grundstücksnummer angegeben; in diesen Fällen wurde der Standort auf Stadt-/Blockebene über Karten-/Verzeichnisdienste (Mapion, NAVITIME usw.) ermittelt. Die Koordinaten wurden mittels OpenStreetMap Nominatim auf Stadt-/Blockebene geokodiert.

Strategie & Ausblick

Der im Juni 2022 angekündigte mittelfristige Managementplan von Tokyo Electron sieht für das Geschäftsjahr 2027/23 einen Umsatz von 3 Billionen Yen und eine operative Marge von mindestens 35 % vor. Im Planungszeitraum sollen über 1 Billion Yen in Forschung und Entwicklung investiert werden, darunter mehr als 400 Milliarden Yen an Investitionsausgaben. Gleichzeitig sollen Produktionskapazität und F&E-Kompetenz gestärkt werden. In den Quartalsergebnissen für Juli bis September 2025 bekräftigte das Unternehmen seine Zuversicht, das Umsatzziel von 3 Billionen Yen zu erreichen. Treiber dieser Entwicklung ist die steigende Nachfrage nach generativer KI. Tokyo Electron betrachtet die Miniaturisierung von Halbleitern und die wachsende Nachfrage nach KI-Lösungen nicht als vorübergehenden Boom, sondern als strukturellen Wandel, der voraussichtlich ein Jahrzehnt oder länger anhalten wird.

SCREEN Holdings hat sich im Rahmen ihres mittelfristigen Managementplans „Value Up Further 2026“ ein langfristiges Umsatzziel von mindestens 1 Billion Yen und eine operative Marge von mindestens 20 % bis zum Geschäftsjahr 2033/3 gesetzt. In den drei Jahren von 2025/3 bis 2027/3 plant das Unternehmen, rund 360 Milliarden Yen – bestehend aus operativem Cashflow und liquiden Mitteln – für Investitionen (ca. 100 Milliarden Yen), Forschung und Entwicklung (ca. 110 Milliarden Yen), strategische Investitionen (ca. 80 Milliarden Yen) und Dividenden (ca. 70 Milliarden Yen) aufzuwenden. Neben der bereits erwähnten Optimierung der Back-End-Prozesse hat das Unternehmen auch den Bau eines neuen Forschungs- und Entwicklungszentrums in den USA angekündigt. Ziel ist es, die Entwicklung von Kerntechnologien – Reinigung, thermische Verarbeitung und fortschrittliche Verpackung – früher zu starten und die Entwicklungszyklen von Anlagen zu verkürzen. Die Strategie besteht darin, das Geschäftsfeld schrittweise zu erweitern und gleichzeitig die Stärken eines spezialisierten Unternehmens zu erhalten.

Der Rückenwind, den beide Unternehmen genießen, ist die rasant steigende Nachfrage nach Halbleitern für generative KI. KI-Chips erfordern fortschrittliche Fertigungstechniken in zwei Bereichen gleichzeitig – feinere Schaltungsgeometrien und ausgefeiltere Gehäuse. Daher spielen sowohl die Front-End-Anlagen von Tokyo Electron als auch die Reinigungs- und Back-End-Anlagen von SCREEN eine entscheidende Rolle bei der Verbesserung der Leistung von KI-Chips. Gleichzeitig verzeichneten beide Unternehmen während der Investitionsabschwünge in den Geschäftsjahren 2024/23 und 2026/23 rückläufige Gewinne. Dies verdeutlicht, dass beide Unternehmen als Anlagenhersteller der strukturellen Tatsache nicht entkommen können, dass ihre Ergebnisse eng mit den Investitionszyklen der Chiphersteller verknüpft sind, an die sie verkaufen.

Referenzen

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